在车里，罗本开始仔细观察光刻技术的相关介绍。毕竟，他只知道获得了某种光刻技术的生产技术，但这种技术达到了什么程度，他完全不清楚。

　　看过之后，罗本越看越惊喜，在他的眼中充满了笑意。这种光刻技术是ArF光刻（193纳米），并且能够满足45纳米以下的IC制造工艺需求。

　　ArF光刻有两种，即193纳米波长的曝光光，分别是干法ArF光刻和浸没式ArF光刻。干法ArF光刻只能满足65-130纳米的IC制造工艺需求，而浸没式ArF光刻则可以满足45纳米以下的技术要求。目前，罗本获得的是能够满足45纳米以下IC制造工艺的193纳米ArF浸没式光刻技术。

　　在二十多年的光刻产业中，193纳米ArF浸没式光刻------------为防止盗用内容，小说分三个站点存放，请前往分站继续观看,分站链接在首页最下方----------上架代表有后续内容，但暂时不更新，如需继续更新请评论留言-------